BAO Mask Avenger(AE高級遮罩插件)v2.7.1官方版

BAO Mask Avenger是一款非常實用的AE高級遮罩插件，有了這款腳本，我們就可以直接在AE中控制和編輯Mask路徑和遮罩的頂點，同時在三維空間制作出路徑動畫。

【功能特色】

拉姆預(yù)覽保護。以前版本的最大問題是Ram預(yù)覽無效

通過插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系統(tǒng)避免了這一點。

3D面具。 Mask Avenger現(xiàn)在可以在3D中控制蒙版，而無需使用空圖層和表達式。

然后更快地計算掩模，并簡化表達式寫入。

背景烘焙。當(dāng)需要修改蒙版時，蒙版復(fù)仇者會立即對其進行轉(zhuǎn)換

當(dāng)前時間，并在后臺烘烤工作區(qū)域的其余部分。這意味著您可以繼續(xù)工作

而面具復(fù)仇者正在忙著烘焙。這取代了«Dynamic»和«bake»模式。

更好地塑造層兼容性。與“動態(tài)”模式相關(guān)的錯誤隨著新烘焙而消失系統(tǒng)。

工作區(qū)和圖層的持續(xù)時間不再影響Mask Avenger的計算速度。當(dāng)然，

烘焙100,000個關(guān)鍵幀需要超過10個，但新的烘焙系統(tǒng)允許您繼續(xù)工作

而它正在烘烤。

不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger現(xiàn)在使用AE自己的掩蔽功能，運行速度更快。

面具預(yù)覽。 Mask avenger 2.0有一個預(yù)覽系統(tǒng)，可以動態(tài)地顯示它們之前的變化

適用于面具。這可以避免在表達式，其他圖層或相機修改蒙版時出現(xiàn)延遲。